Verdampfersystem VS-100



Verdampfersysteme der Serie VS-100 dienen zur Dosierung flüssiger Precursor, die Verdampfung und Dosierung erfolgt über ein System zum direkten Verdampfen und Dosieren. Hierzu wird der Precursor in einen Edelstahltank, dem Verdampfer, geleitet und dort auf die gewünschte Verdampfungstemperatur eingeregelt. Die entstehende Dampfphase wird direkt über einen Massenflussregler (MFC) abgezogen, auf den gewünschten Durchfluss eingeregelt und dem Prozess zugeführt. Ein Trägergasstrom zum Austragen des Precursors wie bei Sättigern oder Bubbler-Systemen ist hier nicht notwendig, weitere Gasstrom können somit unabhängig von der benötigten Precursor-Menge eingestellt werden. Der Verdampfer wird während des laufenden Prozesses automatisch nachgefüllt. Der Druck im Tank wird überwacht, bei Überdruck wird die Heizung des Verdampfers abgeschaltet. Alle Precursor-Dampf führenden Komponenten werden beheizt. Das System ist in einem eigenen Gehäuse eingebaut.Eine Rohrbegleitheizung für die Dampfleitung zur Prozesskammer wird mit ausgerüstet, wenn der Leitungsdruck dies erfordert.

Das System ist metallisch gedichtet, Elastomere werden innerhalb des Verdampfersystems nicht eingesetzt. Damit ist eine wesentliche Voraussetzung zu einem sicheren Betrieb erfüllt. Typische Anwendungen sind die Dosierung von Silanen, Chloriden und Metallalkyle in Abscheideprozess. Medien wie SiCl4, TiCl4, SiHCl3, HMDSO, DEZ oder TMA kommen hier zum Einsatz. Die Auslegung des Systems erfolgt kundenspezifisch jeweils nach den Erfordernissen der Applikation.

Zur Nachfüllung des Verdampfers muss der Precursor in einem Vorratsgefäß bereitgestellt werden. Mit Hilfe einer Gasvorlage wird der Precursor durch ein Tauchrohr herausgedrückt und dem Verdampfer zugeführt werden.

Die Steuerung und Überwachung des Verdampfers mit der Temperaturregelung und der automatischen Nachfüllung erfolgt von der Verdampfersteuerung über eine programmierbare Steuerung. Alle Funktionen werden von dieser Steuerung geregelt. Die Sollwertvorgabe für die MFCs und die Vorgabe des geforderte Gasweges erfolgt über die übergeordnete Steuerung der Beschichtungsanlage. Die Details der Steuerung wie z.B. die Kommunikation werden den Erfordernissen des Prozesse angepasst.

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Systeme



Precursor, Verdampfungssysteme für flüssige und feste Chemikalien

Gasdosiersysteme für Reinstgase

Gasmischsysteme für Referenzgemische in beliebigen Konzentrationen bis in den ppm-Bereich




Konditioniersysteme für Aktivkohlefilter

Brennersysteme für Propan, Erdgas und Wasserstoff

Füllstände und Entleerstationen
für Gasflaschen 
200 und 300 bar