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Verdampfersystem für 2 oder mehr Precursor

Verdampfersystem für HMDSO und einen weiteren Precursor
Galerie Verdampfersystem für 2 oder mehr Precursor (zum Öffnen bitte anklicken)
Verdampfersystem für DEZ-Dampf und Wasser – Gesamtansicht. System zur gleichzeitigen Versorgung von 3 Gebrauchsstellen. Dosierung für SiCl4- und SiHCl3-Dampf. Für jeden Precursor sind 8 Dosierstrecken vorgesehen Dosierung der verdampften Precursor PCl3, GeCl4 und SiCl4. Verdampfersystem für die Precursor PCl3, GeCl4 und SiCl4. Verdampfersystem für HMDSO und einen weiteren Precursor Steuerung eines Verdampfersystems – Detail der Innenansicht. Verdampfersystem für DEZ-Dampf und Wasser – Gesamtansicht. <br>System zur gleichzeitigen Versorgung von 2 Gebrauchsstellen. Gasdosierung zur Flussregelung von 4 verdampften Precursor und 4 Gasen. Ansteuerung der MFCs über Profibus DP Gasdosiersystem für DEZ-Dampf und andere Prozessgase. Dosierung von DEZ und TMAl mit druckgestützten MFCs. Je Precursor stehen 3 Dosierstrecken zur Verfügung. Steuerung für ein Verdampfersystem mit 2 Precursor kombiniert mit der Steuerung für das zugehörige Versorgungssystem. Kommunikation über Profibus DP. Prozessbild der Verdampfersteuerung mit 2 Precursor und je 3 Reglestrecken je Precursor System zum Verdampfen und Dosieren von DEZ und TMAl Gas- und Dampfdosierung für eine FHD Anlage mit BCl3, BBr3, SiCl4 , GeCl4, POCl3 und PCl3.

Sollen für einen Abscheideprozess mehrere Elemente abgeschieden werden die als Flüssigkeit vorliegen, so können die Verdampfersysteme auch für 2 oder mehrere flüssige Precursor ausgelegt werden.

2 oder mehr Verdampfern die in einem System integriert sind werden dann auch von einer gemeinsamen Steuerung betrieben und überwacht. Auch hier besteht die Möglichkeit aus 1 Verdampfer mehrere Verbrauchsstellen zu versorgen. Zusammen bietet dies gegenüber anderen Konstruktionen die Möglichkeit zum Einsparen von Bauteilen, Steuerungselementen und Montageraum. In der Summe wird man damit die Kosten senken.